產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
低溫冷卻液循環(huán)泵，是采取機(jī)械形式制冷的低溫液體循環(huán)設(shè)備。具有提供低溫液體、低溫水浴的作用。結(jié)合旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、真空冷凍干燥箱、循環(huán)水式多用真空泵、磁力攪拌器等儀器，進(jìn)行多功能低溫下的化學(xué)反應(yīng)作業(yè)及藥物儲(chǔ)存。
低溫冷卻液循環(huán)泵恒流、恒壓，循環(huán)液可滿足電子顯微鏡、電子探針、超高真空濺射儀、X光機(jī)、激光器、加速器等貴重儀器設(shè)備的降溫需要。對(duì)于高純度金屬、稀有物質(zhì)提純、環(huán)境實(shí)驗(yàn)及磁控濺射、真空鍍膜等大型設(shè)備，可提供滿足對(duì)溫度、水質(zhì)純凈雙重要求的冷卻水。該設(shè)備特別適合于需要維持低溫、常溫條件下工作的化學(xué)、生物、物理實(shí)驗(yàn)室，是化學(xué)工業(yè)、食品工業(yè)、冶金工業(yè)、大專(zhuān)院校、科研、遺傳工程、高分子工程等實(shí)驗(yàn)室的*設(shè)備。
技術(shù)特點(diǎn)：
1. 風(fēng)冷式（進(jìn)口）全封閉壓縮機(jī)組，質(zhì)量可靠；
2. 制冷機(jī)組繼電器，保護(hù)器，電容等均為高品質(zhì)器件，質(zhì)量保證；
3. 數(shù)顯溫度控制，操作簡(jiǎn)單，醒目；
4. 可與多種儀器相配套（旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)釜、冷凍干燥設(shè)備、生物制藥反應(yīng)釜等）；
5. 制冷量大，制冷速度快，極大地提高了工作效率；
6. 具有在水源缺乏，水質(zhì)、水壓、水溫不佳的環(huán)境及高溫工作條件下，可有效保護(hù)各類(lèi)精密設(shè)備、儀器正常使用；
7. 本機(jī)循環(huán)泵的流量可調(diào)亦可定制，極大滿足不同用戶的實(shí)際需要；
8. 本機(jī)所有型號(hào)均可根據(jù)用戶要求在低溫與制冷量，低溫與容器量之間合理搭配。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時(shí)，其zui低溫度必須在0℃以上。
循環(huán)水恒溫的應(yīng)用領(lǐng)域：
生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場(chǎng)核磁共振、X光機(jī)、微波治療機(jī)、冷帽、降溫毯等等。物化領(lǐng)域：激光器、磁場(chǎng)、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。
冷卻水選型相關(guān)：
通常，制冷能力在1000W以下機(jī)型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運(yùn)用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應(yīng)器、蒸餾儀等實(shí)驗(yàn)室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，激光打標(biāo)機(jī)、激光切割機(jī)等激光儀器及機(jī)床行業(yè)。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于X－衍射儀、磁質(zhì)譜儀、疲勞試驗(yàn)機(jī)、真空鍍膜機(jī)、塑料成形設(shè)備、激光切割機(jī)、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設(shè)備。
應(yīng)用范圍：
對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動(dòng)包裝機(jī)、模具冷卻、洗凈機(jī)械、鍍金槽、精密研磨機(jī)、射出成型機(jī)、樹(shù)脂成型機(jī)的成型部分等。
分析檢測(cè)機(jī)器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計(jì)的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動(dòng)脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計(jì)的光源等。水箱可用的純凈水在機(jī)內(nèi)外循環(huán)冷卻，可保證對(duì)水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運(yùn)行，延長(zhǎng)精密儀器的使用壽命。
常見(jiàn)問(wèn)題：
1、水循環(huán)使用了一年多都很正常，可現(xiàn)在制冷速度好像越來(lái)越慢了，在氣溫越高時(shí)越明顯？
答：水循環(huán)使用很簡(jiǎn)單，但是定期的維護(hù)保養(yǎng)工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實(shí)就是沒(méi)有定期做維護(hù)保養(yǎng)引起的。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負(fù)載中帶走的熱量都需要從前通風(fēng)罩處的散熱器中排走，如果前通風(fēng)罩上吸滿灰塵和柳棉等就會(huì)妨礙這些熱量的散發(fā)，制冷效果將大打折扣。一般來(lái)說(shuō)在正常的使用條件下制冷量下降都是因?yàn)橥L(fēng)散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的。
2、水循環(huán)以前使用都很正常，可現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)噪音比以前大很多，這是什么原因？
答：前面提到過(guò)水循環(huán)的日常維護(hù)工作，這個(gè)問(wèn)題也與之有關(guān)。大家都知道，水里面有很少部分的雜質(zhì)，就是蒸餾水在加到水箱后也不可能*保證一點(diǎn)雜質(zhì)都沒(méi)有。對(duì)于水循環(huán)而言，一般溫度都設(shè)置在20℃，特別適應(yīng)微生物的生長(zhǎng)和繁衍。時(shí)間長(zhǎng)了以后這些微生物就會(huì)堵塞水路的過(guò)濾器造成回水不暢，水泵就會(huì)有較大的噪音。有時(shí)這些微生物附在了換熱器的表面，造成換熱器的傳熱效果變差，制冷量變小。所以一定要嚴(yán)格按照說(shuō)明書(shū)中的要求做好日常維護(hù)工作，定時(shí)清洗內(nèi)槽，長(zhǎng)期停用，保持槽內(nèi)干燥。水循環(huán)里面好像有漏水，有時(shí)地面一會(huì)兒就有幾滴，是不是水路上有地方泄漏？ 一般來(lái)說(shuō)在正常使用的過(guò)程中，水路是不會(huì)有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對(duì)濕度又太大時(shí)，在水循環(huán)的水路中的水泵、水管接頭、外接水管處容易凝結(jié)露水，累積多了以后就滴到地面上了，不用擔(dān)心是水路中有漏水的地方。如果您對(duì)這很介意的話，打開(kāi)空調(diào)降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產(chǎn)生。
